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      HMDS烘箱  圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)

      HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)

      簡(jiǎn)要描述:

      HMDS烘箱 圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對(duì)晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。

      HMDS烘箱  圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)用途

        使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對(duì)晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟(jì)高效的涂布,以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統(tǒng)還支持圖像反轉(zhuǎn),形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負(fù)圖像。

      HMDS烘箱  圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) HMDS涂膠機(jī)應(yīng)用行業(yè)

      MEMS系統(tǒng)

      CVD薄膜;

      光刻

      用于光刻膠附著力的 HMDS 

      作為聚合物和基材之間的粘合層

      作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層;

      噴墨

      防止墨水積聚在噴嘴面板上,確保墨水流動(dòng)不受限制;

      生物MEMS

      親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤(rùn)濕性,或防止蛋白質(zhì)吸收,或減少器件性能的“漂移"

      微陣列芯片的硅烷/底物粘附:DNA、基因、蛋白質(zhì)、抗體、組織;

      光學(xué)和 AR/VR 應(yīng)用

      修改光學(xué)特性

      創(chuàng)建納米壓印層或鈍化層;

      圖像反轉(zhuǎn)

      金屬剝離工藝,用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無(wú)蝕刻工藝;

      HMDS烘箱  圖像反轉(zhuǎn)系統(tǒng) 六甲基二硅氮烷涂膠機(jī)技術(shù)性能

        材質(zhì):內(nèi)箱采用316L級(jí)不銹鋼

        工藝溫度:100-150℃

        溫度分辨率:0.1℃

        溫度波動(dòng)度:≤±0.5

        真空度:≤133pa(1torr)

        操作界面:人機(jī)界面,一鍵作業(yè)

        層數(shù):2層

        HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

        圖像處理:圖像反轉(zhuǎn)

        真空泵: 進(jìn)口無(wú)油泵

        保護(hù)裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報(bào)&警提示,HMDS低液位報(bào)&警,超溫保護(hù),漏電保護(hù),過(guò)熱保護(hù)等


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